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A. 对
B. 错

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刻蚀工艺会影响电池片的哪项性能

A. 并联电阻
B. 开路电压
C. 短路电流
D. 串联电阻

下列方程式中属于刻蚀工艺的是

A. SIF4＋2HF―H2〔SIF6〕
B. CF4＋SIO2―SIF4＋CO2
CF4＋SIO2＋O2―SIF4＋CO2
D. SIO2＋4HF―SIF4＋2H2O

后清洗（去磷硅玻璃）的目的是什么

A. 去除金属离子
B. 去除硅片表面机械损伤
C. 去除刻蚀腐蚀的表面痕迹
D. 去除硅片表面含有磷原子的SIO2层

晶体硅太阳能电池减反射膜广泛采用（）薄膜

A. a―SINx:H
B. TIO2
C. SIO2
D. ZNS