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常用来制备耐磨膜材的物理气相沉积技术是:____________。

A. 蒸镀
B. 分子束外延
C. 溅射镀
D. 离子镀

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物理气相沉积主要包括三大类技术: 、 和 。

PECVD利用 提高反应物的活性来促进反应,提高沉积速率。

真空蒸发镀膜按照加热源种类主要分为 、 、高频蒸镀技术和激光蒸镀技术等。

电镀是一种用电解方法进行镀膜的过程,工件所处的电极是 。

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