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理想刻蚀工艺具有特点

A. 各向同性刻蚀,即具有垂直刻蚀,又具有横向刻蚀。
B. 良好的刻蚀选择性,对掩膜刻蚀速度小,对待刻蚀薄膜刻蚀速度大。
C. 加工批量大,控制容易,成本低,对环境污染小,适用于工业生产。

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氢氟酸可以去除磷硅玻璃与多余试剂,利用二氧化硅和硅的不同判断清洗效果。

湿法刻蚀时采用和可以避免湿法刻蚀时气泡形成及化学蚀刻液无法完全与晶圆表面接触所造成的不完全及不均匀的蚀刻。

对于高定向腐蚀的要求的场合,我们往往联合地使用以及合理地控制来获得很高深宽比地刻蚀的效果。

( )级是教育部联合多个部门共同举办的一项全国性职业教育学院的学生竞赛活动。

A. 国家级
B. 省级
C. 地市级
D. 学院级

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