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2.硅片的清洗包括_______和_______。

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单晶绒面形成最终取决于_______和_______两个因素

碱制绒后硅片用氢氟酸漂洗,可以去除_______。

化学腐蚀的速率主要取决于整个酸性腐蚀系统的性质,腐蚀系统包括_________和_________。

一般我们将硅片的织构表面称为 _____,将硅片表面织构化称为______。

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