A. 液体培养基 B. 半固体培养基 C. 血琼脂平板培养基 D. 固体培养基 E. 厌氧培养基
A. 高压蒸汽法 B. 滤过法 C. 蒸馏法 D. 巴氏消毒法 E. 干烤法
A. 内毒素 B. 热原质 C. 侵袭性酶 D. 外毒素 E. 细菌素
A. 5~10分钟 B. 20~30分钟 C. 40~60分钟 D. 18~24小时 E. 72小时
A. 沉淀生长 B. 形成菌落 C. 形成菌膜 D. 浑浊生长 E. 云雾状生长