对自己独立创作的与他人相同的集成电路布图设计进行复制或者将其投入商业利用的,可以不经布图设计权利人许可,不向其支付报酬。()
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我国现行法规规定,集成电路布图设计专有权的保护期为10年,自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算,以较前日期为准。()
与注册商标有关的注册、转让、名义人变更事项,都由中华人民共和国工商行政管理总局商标局统一核准。()
上海市人民政府《关于进一步加强本市知识产权工作若干意见》中规定,要实施知识产权继续教育计划,五年内完成首轮各类专业技术人员和经营管理人员知识产权继续教育培训。()
甲厂一直将某项技术作为商业秘密保护,并已将该项技术秘密许可乙厂使用,同时也与乙厂签署了保密协议。后乙厂违反保密协议在公开出版的某专业刊物上公开了该项技术。丙厂根据该专业刊物上刊登的该项技术的内容实施了该项技术,丙厂的行为也是侵犯甲厂商业秘密的行为。()