自杀相关因素包括哪些方面?

A. 锗普通
B. 硅普通
C. 锗开关
D. 硅开关

A. 在线高速主存储设备、接入层设备及备份存储设备
B. 汇聚层设备、存储设备及接入设备
C. 近线存储设备、备份存储设备及接入设备
D. 离线高速主存储设备、近线存储设备及备份存储设备
E. 在线高速主存储设备、近线存储设备及备份存储设备

A. 薄壁空洞，内壁光滑
B. 薄壁空洞，内壁凹凸不平
C. 厚壁空洞，内有液平
D. 厚壁空洞，内壁凹凸不平
E. 以上都不是