题目内容

影响光刻胶膜厚度的主要因素有:

A. 光刻胶黏度
B. 旋转速度
C. 抗蚀性
D. 分辨率

查看答案

搜索结果不匹配？点我反馈

更多问题

判断光刻工艺是否具有生命力的几个标准,他们分别是:

A. 分辨率
B. 套准精度
C. 产出率
D. 灵敏度

正胶常常采用的显影液有:

A. 氢氧化钠
B. 二甲苯
C. 四甲基氢氧化铵
D. 斯托达德溶剂

PR的含义是:

曝光后,光刻胶由可溶变成不溶,该种光刻胶是正胶。

A. 对
B. 错