硅MOSFET和硅JFET结构相同。（）

A. 正确
B. 错误

片状源扩散具有设备简单，操作方便，晶片缺陷少，均匀性、重复性和表面质量都较好，适于批量生产，应用越来越普遍。（）

A. 正确
B. 错误

光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）

A. 正确
B. 错误

设备、试剂、气瓶等所有物品不需经严格清洁处理，可直接进入净化区。（）

A. 正确
B. 错误

在半导体集成电路中，各元器件都是制作在同一晶片内。因此要使它们起着预定的作用而不互相影响，就必须使它们在电性能上相互绝缘。（）

A. 正确
B. 错误

表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜，使器件的表面与周围气氛隔离。（）

A. 正确
B. 错误

厚膜浆料存在触变性，流体受到外力作用时黏度迅速下降，外力消失后，黏度迅速恢复原状。（）

A. 正确
B. 错误

下列材料属于N型半导体是（）。

A. 硅中掺有元素杂质磷（P）、砷（As）
B. 硅中掺有元素杂质硼、铝（Al）
C. 砷化镓掺有元素杂质硅（Si）、碲（TE）
D. 砷化镓中掺元素杂质锌、镉、镁

离子注入层的深度主要取决于离子注入的（）。

A. 能量
B. 剂量

集成电容主要有哪几种结构？