金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜，带胶蒸发或溅射所需的金属，然后在去除光致抗蚀剂膜的同时，把胶膜上的金属一起去除干净。（）

A. 正确
B. 错误

属于绝缘体的正确答案是（）。

A. 金属、石墨、人体、大地
B. 橡胶、塑料、玻璃、云母、陶瓷
C. 硅、锗、砷化镓、磷化铟
D. 各种酸、碱、盐的水溶液

离子注入层的杂质浓度主要取决于离子注入的（）。

A. 能量
B. 剂量

人们规定：（）电压为安全电压.

A. 36伏以下
B. 50伏以下
C. 24伏以下

工艺人员完成工艺操作后要认真、及时填写工艺记录，做到记录内容详细、（）、（）、书写工整、（）。

将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。

A. 接触
B. 接近式
C. 投影

腐蚀V形槽一般采用（）的湿法化学腐蚀方法。

操作人员的质量职责是什么？

二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

A. 预
B. 再
C. 选择

在半导体工艺中，硫酸常用于去除（）和配制（）等。