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下面对湿法和干法刻蚀工艺叙述正确的有。

A. 湿法刻蚀的反应生成物必须是气体或能溶于刻蚀剂的物质，否则会造成反应物沉淀，影响刻蚀的正常进行。湿法刻蚀选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低。湿法刻蚀钻刻严重、对图形的控制性较差，不能用于小的特征尺寸，且会产生大量的化学废液
B. 干法刻蚀各向异性好，选择比高，可控性、灵活性、重复性好，细线条操作安全，易实现自动化，无化学废液，处理过程未引入污染，洁净度高。干法刻蚀成本高，设备复杂。
C. 干法刻蚀包括物理刻蚀、化学刻蚀和物理化学刻蚀；湿法刻蚀主要指化学刻蚀。
D. 特征尺寸大于20纳米干法较多

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A. 干法去胶主要有等离子去胶、紫外光分解去胶等，其中等离子去胶使用较为普遍
B. 湿法去胶的优点是去胶操作简单、效率高、可靠性高、易自动化、表面无划痕、成本低
C. 湿法去胶分为有机溶液（丙酮）去胶和无机溶液（硫酸）去胶。
D. 干法去胶工艺简单、去胶效果较干净

A. 各向同性刻蚀，即具有垂直刻蚀，又具有横向刻蚀。
B. 良好的刻蚀选择性，对掩膜刻蚀速度小，对待刻蚀薄膜刻蚀速度大。
C. 加工批量大，控制容易，成本低，对环境污染小，适用于工业生产。