题目内容

下列几种曝光方式中,分辨率更高的是:

A. 接触式曝光
B. 接近式曝光
C. 投影式曝光
D. 浸润式曝光

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影响光刻胶膜厚度的主要因素有:

A. 光刻胶黏度
B. 旋转速度
C. 抗蚀性
D. 分辨率

判断光刻工艺是否具有生命力的几个标准,他们分别是:

A. 分辨率
B. 套准精度
C. 产出率
D. 灵敏度

正胶常常采用的显影液有:

A. 氢氧化钠
B. 二甲苯
C. 四甲基氢氧化铵
D. 斯托达德溶剂

PR的含义是: