A. 提高铁电对的电位 B. 降低铁电对的电位 C. 预处理 D. 掩蔽干扰离子
A. 边滴定边快速摇动 B. 加入过量的KI,并在室温和避光直射的条件下滴定 C. 在75~85oC恒温条件下滴定 D. 滴定一开始就加入淀粉指示剂
A. 无影响 B. 偏低 C. 偏高 D. 不确定
A. 增加温度 B. 加入配位剂 C. 加入指示剂 D. 减少反应物浓度
A. 2.5×1056 B. 2.5×1055 C. 5×1056 D. 5×1055