用几十eV的高能粒子轰击靶材，将其原子打出来的技术称为 。

A. 真空蒸发法
B. 溅射镀膜法
C. 离子镀
D. PECVD

常用来制备耐磨膜材的物理气相沉积技术是：____________。

A. 蒸镀
B. 分子束外延
C. 溅射镀
D. 离子镀

物理气相沉积主要包括三大类技术: 、 和 。

PECVD利用 提高反应物的活性来促进反应，提高沉积速率。

真空蒸发镀膜按照加热源种类主要分为 、 、高频蒸镀技术和激光蒸镀技术等。

电镀是一种用电解方法进行镀膜的过程，工件所处的电极是 。

阀型金属的阳极氧化过程中形成的氧化膜具备了 特性。

磁控溅射靶材的常见形状包括__________和_______________ 。

蒸镀法制膜时，常用的电阻加热器两种形状分别是_______________和_______________ 。

薄膜物理气相沉积（PVD）技术主要分为 、溅射沉积和 三种技术。