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薄膜物理气相沉积（PVD）技术主要分为、溅射沉积和三种技术。

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化学镀是一种无电源电镀法,可以不使用催化剂沉积薄膜。

A. 对
B. 错

在蒸镀、溅射和离子镀中，离子镀得到的膜层与基片结合度最强。

A. 对
B. 错

溅射与蒸镀比较，溅射制备的薄膜质量（如粘附性、保形性等）更好。

A. 对
B. 错

蒸发镀膜过程中，蒸发源正上方的膜厚最厚，污染相对较小。

A. 对
B. 错