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培养基可以在160℃下干热灭菌1-2小时。对（）

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在实验中，用液体培养厌氧菌时，一般采用加入有机还原剂或无机还原剂的深层液体培养基，并在其上封以凡士林-石蜡层（）

霉菌适宜生长的pH为6.0-8（）

高锰酸钾法所用的强酸通常是HNO3（）

标定氢氧化钠标准溶液时，所用基准邻苯二甲酸氢钾应于120-130℃烘至恒重。对（）