题目内容

以下关于烤瓷基底冠的描述，哪项是错误的（）。

A. 支持瓷层
B. 与预备体紧密贴合
C. 金瓷衔接处为刃状
D. 金瓷衔接处避开咬合功能区
E. 为瓷层留出0.85～1.2mm间隙

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在一定范围内，其泄漏率随垫片宽度增加呈线性递增，当垫片宽度超过某一定值时，泄漏率基本不变，仅与介质压力有关。（）

A. 正确
B. 错误

送经机构可分为间歇式、（）和并列双轴式送经机构。

关于正常恶露，正确的是（）

A. 血性恶露约持续1周
B. 浆液性恶露含大量白细胞，坏死蜕膜组织
C. 白色恶露约持续1周
D. 胎盘胎膜残留或合并感染时恶露增多
E. 恶露含有血液、胎盘绒毛碎片、坏死蜕膜组织等

网络硬仿真测试采用盲测模式时，测试前不需要进行扫频，而非盲测模式测试前需要进行扫频。

A. 正确
B. 错误