题目内容

反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。

A. 碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等
B. 氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等
C. 碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等
D. 金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等

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A. 柠檬酸
B. 硫酸
C. 三聚磷酸钠
D. 氨基磺酸

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A. 锅水水滴
B. 溶解杂质
C. 减温水滴
D. 锅水水滴与溶解杂质之和