题目内容

下面不是制造非晶硅太阳电池常用的方法是（）。

A. 辉光放电法
B. 反应溅射法
C. 化学气相沉积法
D. 电镀法

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A. 晶都酒店
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轴向拉（压）杆件的破坏形式为（）。

A. 强度破坏
B. 失稳破坏
C. 强度或失稳破坏
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