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机构中的构件可分为三类：（）、（）和（）。

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在平面机构中若引入一个高副将引入（）个约束。

平面运动副按组成运动副两构件的接触特性，分为（）两类。其中两构件间为面接触的运动副称为（）；两构件间为点接触或线接触的运动副称为（）。

在平面机构中构件数N、约束数S与机构自由度F的关系是（）。

紫外线(UV)辐射使DNA分子最易形成的二聚体是：

A. C—C
B. C—T
C. T—T
D. T—U
E. U—C