题3-3-6 集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是： 。
A. 根据版图提供的信息来制造掩膜
B. 根据掩膜提供的信息来设计版图
C. 版图（Layout）与掩膜（Mask）的毫无关系
D. 不确定
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A. Nǐ kěyǐ zǒulù qù xuéxiào. 你可以走路去学校。
B. Nǐ zǒulù kěyǐ qù xuéxiào. 你走路可以去学校。
C. Zǒulù qù xuéxiào nǐ kěyǐ . 走路去学校你可以。
D. Zǒulù nǐ kěyǐ qù xuéxiào. 走路你可以去学校。
在两对独立遗传的基因间存在重叠作用，则杂交二代各类表型的比例为（）
A. 9:7
B. 15:1
C. 9:6:1
D. 9:3:4
题4-3-5、基本差分对电路中对共模增益影响最显著的因素是（）。
A. 尾电流源的小信号输出阻抗为有限值
B. 负载不匹配
C. 输入MOS不匹配
D. 电路制造中的误差
假设投资计划未来的现金流已知，有关净现值（ＮＰＶ）法与内部报酬率法（ＩＲＲ）法之叙述，何者正确？
A. 任一现金流量，其ＩＲＲ只有一个数据
B. 所有NPV大于零的计划可考虑投资
C. 所有ＩＲＲ大于零的计划可考虑投资
D. 用两个方法做资本预算决策，其结果永远一样
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