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风险控制的四个方面。

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环形阵列项目填充角度是指()

A. 两个相邻项目角度
B. 需要阵列的角度范围
C. 360
D. 90

内轨型配合物，磁距不一定为0。

A. 对
B. 错

在配合物K[Co(C2O4)2(en)]中，中心离子的配位数为6。

A. 对
B. 错

配位体的数目就等于配位数。

A. 对
B. 错