在传统光刻机的光学镜头与晶圆之间的介质可用水替代空气,以缩短曝光光源波长和增大镜头的数值孔径,从而提高分辨率,这种光刻技术是:

A. 极紫外光光刻
B. 电子束光刻
C. 离子束光刻
D. 浸润式光刻

下列几种曝光方式中,分辨率更高的是:

A. 接触式曝光
B. 接近式曝光
C. 投影式曝光
D. 浸润式曝光

影响光刻胶膜厚度的主要因素有:

A. 光刻胶黏度
B. 旋转速度
C. 抗蚀性
D. 分辨率

判断光刻工艺是否具有生命力的几个标准,他们分别是:

A. 分辨率
B. 套准精度
C. 产出率
D. 灵敏度

正胶常常采用的显影液有:

A. 氢氧化钠
B. 二甲苯
C. 四甲基氢氧化铵
D. 斯托达德溶剂

PR的含义是: