题目内容

（多选）下列错误可用红字更正法进行更正的有（)。

A. 记账后发现记账凭证中应借应贷科目有错而导致记账错误
B. 记账后发现记账凭证正确，而是记账时笔误所致
C. 记账后发现记账凭证中应借应贷科目正确、方向正确，但所记金额小于应记金额
D. 记账后发现记账凭证中应借应贷科目正确、方向正确，但所记金额大于应记金额

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题3-3-6 集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是：。

A. 根据版图提供的信息来制造掩膜
B. 根据掩膜提供的信息来设计版图
C. 版图（Layout）与掩膜（Mask）的毫无关系
D. 不确定

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A. Nǐ kěyǐ zǒulù qù xuéxiào. 你可以走路去学校。
B. Nǐ zǒulù kěyǐ qù xuéxiào. 你走路可以去学校。
C. Zǒulù qù xuéxiào nǐ kěyǐ . 走路去学校你可以。
D. Zǒulù nǐ kěyǐ qù xuéxiào. 走路你可以去学校。

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在两对独立遗传的基因间存在重叠作用，则杂交二代各类表型的比例为（）

A. 9:7
B. 15:1
C. 9:6:1
D. 9:3:4

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题4-3-5、基本差分对电路中对共模增益影响最显著的因素是（）。

A. 尾电流源的小信号输出阻抗为有限值
B. 负载不匹配
C. 输入MOS不匹配
D. 电路制造中的误差

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（多选）下列错误可用红字更正法进行更正的有（)。

题3-3-6 集成电路设计及制造中，版图（Layout）与掩膜（Mask）的关系是： 。

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在两对独立遗传的基因间存在重叠作用，则杂交二代各类表型的比例为（）

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