单晶硅制绒多采用槽式清洗设备

A. 对
B. 错

杂质在硅晶体中扩散只有间隙扩散一种机制

A. 对
B. 错

扩散过程中，硅片周边表面扩散层不会对电池片造成任何影响

A. 对
B. 错

刻蚀是采用物理或化学方法无选择性的从半导体材料表面去除不需要材料的过程

A. 对
B. 错

在经过制绒后，就决定了硅片的正反面

A. 对
B. 错

测量PECVD镀的膜厚用的四探针，测量方块电阻用的是椭偏仪。

A. 对
B. 错

交通行政复议

交通行政复议的目的？

交通行政复议的原则？

组件图中主要描述的问题是()

A. 系统中组件和硬件的适配问题
B. 系统中组件与组件之间、定义类或接口与组件之间的关系
C. 在系统运行时,用户和组件、组件和组件之间互相交互和引用的时序关系
D. 组件实现的功能及其实现源代码