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关于电解抛光的说法中,错误的是

A. 凹陷部分覆盖较薄,薄膜电阻小、电流大
B. 电解抛光过程中要不断搅拌电解液
C. 根据不同合金选择适当的电解质
D. 电解液要新鲜、干净,并定期更换

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电解时铸件凸起部分覆盖较( ),薄膜电阻( )、电流( ),溶解( )

A. 薄 小 大 较多
B. 厚 大 小 较少
C. 薄 大 小 较多
D. 厚 小 大 较少

电解时铸件凹陷部分覆盖较( ),薄膜电阻( )、电流( ),溶解( )

A. 薄 小 大 较多
B. 厚 大 小 较少
C. 薄 大 小 较多
D. 厚 小 大 较少

打磨抛光过程中因没有及时冷却,使支架升温可引起

A. 支架的折断
B. 支架的变形
C. 抛光后的支架粗糙
D. 抛光后的支架高度光亮

铸件抛光后表面还是粗糙,出现这种情况时应

A. 重新铸造支架
B. 按照抛光的原则重新抛光
C. 使用砂针进行调磨
D. 使用树脂填平铸件表面

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