题目内容

3.21 扩散后硅片间方阻不均的原因是：

A. 扩散温度不均
B. 石英管漏气
C. 气流不均
D. 扩散时间太长

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3.4 扩散制结从原理上讲，其实际过程应该是两个，分别是（）和（）

3.6 如果要进行单面扩散，那么每个槽中应放置（）片硅片

3.9 请按照工艺先后写出以下操作的顺序。接收片盒—

单晶硅制绒多采用槽式清洗设备

A. 对
B. 错