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曝光技术可分为有掩膜曝光和无掩膜曝光，请分别列举四种曝光技术

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显影检验一般要通过光学显微镜，扫描电子显微镜（SEM）或者激光系统来检查图像的尺寸是否满足要求。需要检测的内容包括？

掩模版

正胶和负胶

影响光刻过程的主要因素有。

A. 掩膜版
B. 光刻胶
C. 光刻机
D. 洁净环境