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diffuse的含义是

A. 扩散
B. 氧化
C. 光刻
D. 刻蚀

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ion implant的含义是

A. 扩散
B. 离子注入
C. 光刻
D. 刻蚀

anneal的含义是：

A. 氧化
B. 离子注入
C. 退火
D. 刻蚀

RTA

A. 快速热退火
B. 快速热处理
C. 反应离子刻蚀
D. 等离子体刻蚀

RTP

A. 快速热退火
B. 快速热处理
C. 反应离子刻蚀
D. 等离子体刻蚀