超星 - 4-6单元测试 - 查题吧

单选题

如果硅片四周的N型硅没有刻蚀干净，就会导致生产出的电池片

A. 短路
B. 断路
C. 正常，无问题
D. 爆炸

单选题

4.9 湿法刻蚀后续用臭氧进行处理的作用是：

A. 增加对紫外线的吸收
B. 防止碎片
C. 增强抗PID的性能
D. 减小硅片电阻

单选题

6.14 PECVD的全称是？

A. 等离子刻蚀
B. 化学气相沉积
C. 等离子增强化学气相沉积
D. 物理化学气相沉积

多选题

4.7湿法刻蚀的刻蚀槽中加入的化学试剂有

A. 氢氟酸
B. 硝酸
C. 硫酸
D. NaOH

多选题

4.12 干法刻蚀所用的原料有哪些？

A. O2
B. N2
CF4
D. F2

多选题

4.10 湿法刻蚀后需要测试的项目有：

A. 亲水性
B. 边缘绝缘性能
C. 硅片厚度
D. 刻蚀减薄量

多选题

6.7 减反射的效果取决于减反射膜的

A. 折射率
B. 厚度
C. 反射率
D. 入射率

多选题

6.15 PECVD的目的有哪些？

A. 沉积减反膜
B. 增加硅片对光电吸收效率
C. 增加太阳电池的光电流
D. 钝化多晶硅的晶界

判断题

6.16 PECVD镀膜后发现薄膜颜色呈浅蓝，是因为镀膜镀薄了

A. 对
B. 错

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